多弧靶

多弧靶(图1)

    钛含量≥:99.8(%)  杂质含量:0.02(%)  重量:不等(kg/块) 

    牌号:TA0,TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)  

    钛圆靶 :技术条件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97 

    钛板靶 :技术条件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93

    用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业 


    钛含量≥:99.8(%)  杂质含量:0.02(%)  重量:不等(kg/块) 

    牌号:TA0,TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)  

    钛圆靶 :技术条件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97 

    钛板靶 :技术条件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93

    用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业